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非磁性基體金屬基體-非導(dǎo)電覆蓋層檢測(cè)報(bào)告

時(shí)間:2023-01-05 16:19:13 點(diǎn)擊次數(shù):0
 

檢測(cè)報(bào)告圖片模板

非磁性基體金屬上非導(dǎo)電覆蓋層

覆蓋層厚度測(cè)量渦流法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用渦流測(cè)厚儀無(wú)損測(cè)量非磁性基體金屬上非導(dǎo)電覆蓋層厚度的方法。

本方法適用于測(cè)量大多數(shù)陽(yáng)*氧化膜的厚度;但它不適用于一切的轉(zhuǎn)化膜,有些轉(zhuǎn)化膜因?yàn)樘《荒苡眠@種方法測(cè)量(見(jiàn)第7章)。

本方法理論上能測(cè)量磁性基體金屬上覆蓋層的厚度,但不予推薦。在這種情況下﹐應(yīng)采用GB/T 4956中所規(guī)定的磁性方法進(jìn)行測(cè)量。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的*新版本。凡是不注日期的引用文件,其*新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

GB/T 4956﹑磁性基體上非磁性覆蓋層覆蓋層厚度測(cè)量﹑磁性法(ISO 2178,1982,IDT)

3原理

渦流測(cè)厚儀器測(cè)頭裝置中產(chǎn)生的高頻電磁場(chǎng),將在置于測(cè)頭下面的導(dǎo)體中產(chǎn)生渦流,渦流的振幅和相位是存在于導(dǎo)體和測(cè)頭之間的非導(dǎo)電覆蓋層厚度的函數(shù)。

檢測(cè)項(xiàng)目及標(biāo)準(zhǔn)

序號(hào) 檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn) 檢測(cè)對(duì)象 檢測(cè)項(xiàng)目 1 非磁性基體金屬上非導(dǎo)電覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 渦流方法 GB/T 4957-2003 非磁性基體金屬基體-非導(dǎo)電覆蓋層 厚度

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