破壞臭氧層物質(zhì)ODS簡(jiǎn)介

　　工業(yè)上大量生產(chǎn)和使用的全氯氟烴(CFCs)、全溴氟烴(哈龍)等物質(zhì)，當(dāng)它們被釋放并上升到平流層時(shí)，受到強(qiáng)烈的太陽(yáng)紫外線UV-C的照射，分解出Cl和Br自由基，這些自由基很快地與臭氧進(jìn)行連鎖反應(yīng)。人們把這些破壞大氣臭氧層、危害人類(lèi)生存環(huán)境的物質(zhì)稱(chēng)為“消耗臭氧層物質(zhì)”，簡(jiǎn)稱(chēng)ODS。

　　目前認(rèn)為ODS包括下列物質(zhì)：CFC(氯氟烴)、哈龍(Halon)、四氯化碳、甲基氯仿、溴甲烷以及HCFC、HBFC等。

　　大量使用的ODS主要包括下列幾類(lèi)物質(zhì)：

　　全氯氟烴：主要用作制冷劑、清洗劑和發(fā)泡劑;

　　哈龍：主要用作滅火劑;

　　四氯化碳：主要用作化工生產(chǎn)的助劑和清洗劑;

　　甲基氯仿：主要用作清洗劑;

　　甲基溴：主要在農(nóng)業(yè)種植、糧食倉(cāng)儲(chǔ)或商品檢疫中用作殺蟲(chóng)劑;

　　含氫氯氟烴：主要用作制冷劑、清洗劑和發(fā)泡劑。

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